<<
>>

Малоугловое рассеяние лазерного излучения (LALS)

В работах [96-98] была исследована возможность использования метода малоуглового рассеяния длинноволнового лазерного излучения для исследования скоплений электрически активных примесей в полупроводниковых материалах.

C помощью этого метода, названного методом LALS (Low Angle Laser Scattering) удалось обнаружить новый тип примесных дефектов - «примесные облака», которые характеризуются относительно большими размерами порядка 10 мкм и относительно малой концентрацией порядка IO15см3, примесные облака обычно слабо влияют на проводимость и измерения эффекта Холла, но в ряде случаев могут существенно изменять как свойства кристаллов, так и параметры приборов на их основе. Практически любая неоднородность в кристалле (будь то дислокация, упругие напряжения вокруг нее или какого-либо другого дефекта кристаллической решетки, примесный преципитат, флуктуация концентрации свободных носителей) имеет отличную от средней по кристаллу величину диэлектрической проницаемости. Например, наличие кислородных облаков в кристаллах особо чистого германия приводят к существенному ухудшению качества изготавливаемых из них детекторов гамма-излучения. Принцип метода LALS и схема экспериментальной установки для его реализации приведены на рисунках 1.2 и 1.3. По принципу действия LALS по существу представляет собой лазерный вариант классической схемы темнопольной оптической

микроскопии. В экспериментальной установке используется СО2 лазер мощностью 0,5 Вт на длине волны 10,6 мкм. Образец помещается на двухкоординатном предметном столике. ИК фотоприёмник (Cd-Hg-Te) охлаждался жидким азотом и имел пороговую чувствительность 3 ? IO12Гц1/2 Вт'1 при площади чувствительной зоны 150 ? 150 мкм и времени

интегрирования IO'2с, соответственно измеряемая мощность падающего излучения составляла 5 ? IO'10Вт.

Оценка порога обнаруживаемых значений концентрации свободных носителей в области дефектов составила около IO14 см'3.

Рисунок 1.2 - Принцип метода LALS. 1 - источник излучения, 2 испытуемый образец, 3, 4 - диафрагма диаметром Dl в плоскости линзы Ll, 5 - непрозрачный экран с радиусом b∣в задней фокальной плоскости Ll, 6 - диафрагма с радиусом b0в плоскости линзы L2, 7 - диафрагма с диаметром Dl в плоскости линзы L2, 8 - линза L2, 9 - рассеянное излучение, 10 - фотоприёмник [96]

Рисунок 1.3 -Макет экспериментальной установки. 1 - СС>2.лазер; 2 - обтюратор; 3 - фокусирующая линза LI; 4 - образец; 5 - непрозрачный экран;

6 - проецирующая линза; 7 - охлаждаемый жидким азотом ИК Cd-Hg-Te фотоприёмник; 8 - усилитель с синхро детектором; 9 - АЦП; 10 - система управления шаговым двигателем; 11- компьютер; 12 - шаговые двигатели для сканирования образца [96]

Приведённые примеры подчеркивают эффективность метода LALS для неразрушающего контроля качества как исходных заготовок, так и конечных продуктов.

<< | >>
Источник: Иванова Александра Ивановна. Микроморфология поверхности и дислокационная структура крупногабаритных оптических кристаллов германия и парателлурита. Диссертация на соискание ученой степени кандидата физико-математических наук. Тверь - 2015. 2015

Еще по теме Малоугловое рассеяние лазерного излучения (LALS):

  1. Критерии выбора параметров лазерного излучения для лечебных целей
  2. Оценка качества лазерного луча по распределению излучения
  3. Модель нагрева алмазного окна мощным лазерным излучением
  4. Методика экспериментов по исследованию результатов воздействия лазерного излучения на монокристаллы германия
  5. Ионизирующие излучения Общие сведения об ионизирующих излучениях. Источники ионизирующих излучений
  6. Коэффициенты поглощения, рассеяния и ослабления
  7. Рассеянность
  8.   Внимание и рассеянность.
  9. Многократное рассеяние
  10. 3.1.2. Комптоновское рассеяние
  11. Изгнание из рая и рассеяние в иудаизме
  12. 4.5. Амплитуда рассеяния