Парателлурит
Для кристаллов парателлурита единая общепринятая методика травления до настоящего времени не выработана. Процедура селективного травления монокристалла TeCh, полученного методом Чохральского, предложенная в работе Grabmaier J.G.[174], включает предварительный этап химического полирования в 15%-ном водном растворе NaOH при 50°С в течение 1-3 минут с последующим травлением в 60%-ном растворе хлорной кислоты НСЮд при 30-50oC в течение 60 минут.
В статье [174] приведены примеры выявления структуры дислокаций и малоугловых границ зерен на плоскости (001). Наблюдения проводились с помощью оптического металлографического микроскопа в отражательном режиме. Типичные значения плотности дислокаций кристаллов оптического качества составили ~ 7∙ IO3 см'2. В работе Калашникова А.И. [174] описаны методы получения ямок травления монокристаллов TeO2на срезах (001), (110) и (100). Показано, что грань (001) полируется при любых концентрациях RbOH и CsOH, а также KOH - при концентрации выше 3,7 моль/л. Грань (110) оптимально полируется при концентрациях 3-4 моль/л. RbOH и 2-3 моль/л CsOH, в случае KOH -раствор 11-12 моль/л. В работе [176] рецептура Грабмайера была применена для селективного травления срезов (110). После травления в 60%-ном растворе HClO4образцы закаливались в дистиллированной воде и промывались изопропиловым спиртом. Формы ямок травления - параллелограммы. Авторами [176] для селективного травления плоскости (110) использовался 50% -ный раствор HCl с предварительной химической полировкой в растворе KOH 12 моль/л. Кумаради [177] применялмодификацию базового рецепта Грабмаера - химическая полировка в 15%-ном водном растворе NaOH при 60oC в течение 60 секунд с последующим травлением в HCIO4 при 30-50oC в течение 60 минут. Было обнаружено, что формы ямок травления зависят от ориентации кристаллического образца (квадраты, парапелепипеды и параллелограммы соответственно для граней (001), (100) и (110) [174]. Yasukake [178] на предварительном этапе также применял химическую полировку (15%-ный водный раствор NaOH), но для селективного травления использовал раствор 50 мл H2O + 25 г NaOH + 1 г I2при 560C в течение 2 минут (для граней {110} и 60% -ная хлорная кислота при 30oC в течение 30 минут (для граней (001)).
Нами были исследованы образцы монокристаллов парателлурита, выращенных способом Чохрапьского в направлениях [110] и [001]. Для выявления дислокационных ямок TeO2, ориентированного в [110] был применен одностадийный режим травления образца в 10%-ном растворе Na2CO2(кальцинированная сода) при 30-40"C в течение 5 минут.
Для выявления дислокационных ямок TeO2, ориентированного в [001] использовался следующий режим травления образца: выдержка образца в 10%- ном растворе Na2CO3 (кальцинированная сода) при 30-4O0C в течение 10 минут, затем химическая полировка в 15% NaOH при температуре 50°С в течение 2 мин.
Данные методики селективного травления кристаллов парателлурита были зарегистрированы диссертантом в соавторстве как ноу-хау.
Таким образом, в текущей главе нами получены рекомендации по оптимизации условий роста кристаллов германия и парателлурита; модифицирована рецептура селективного травления монокристаллов германия на плоскостях (100) и (110) и парателлурита на плоскостях (OOl) и (110), описана методика автоматической процедуры подсчета дислокационных ямок на монокристаллах германия и парателлурита, представлен новый метод определения плотности дислокаций в монокристаллах германия методом профил ометрии.
Еще по теме Парателлурит:
- Наблюдения оптических аномалий в парателлурите и ниобате лития методом лазерной коноскопии
- ОБЩАЯ ХАРАКТЕРИСТИКА РАБОТЫ
- Оптические свойства одноосных кристаллов парателлурита, ииобата лития и SBN, как объектов для исследований методом коноскопии
- Монокристаллы парателлурита и их свойства
- Педагогіка. Інтегрований курс теорії та історії: Навчально- методичний посібник: У 2 ч. / За ред. А.М. Бойко. — Ч. 2. — К.: ВІПОЛ; Полтава: АСМІ,2004. — 504 с., 2004
- Кармазин Ю.А., Стрельцов Е.Л. и др.. УГОЛОВНЫЙ КОДЕКС УКРАИНЫ. КОММЕНТАРИЙ. Харьков-Одиссей, 2001
- ПРЕДИСЛОВИЕ
- РЕДАКТОРСКАЯ СТАТЬЯ
- ОБЩАЯ ЧАСТЬ
- Раздел I
- ОБЩИЕ ПОЛОЖЕНИЯ
- Статья 1. Задачи Уголовного кодекса Украины
- Статья 2. Основание уголовной ответственности
- Раздел II ЗАКОН ОБ УГОЛОВНОЙ ОТВЕТСТВЕННОСТИ
- Статья 3. Законодательство Украины об уголовной ответственности
- Статья 4. Действие закона об уголовной ответственности во времени
- Статья 7. Действие закона об уголовной ответственности в отношении преступлений, совершенных гражданами Украины и лицами без гражданства за пределами Украины
- Статья 8. Действие закона об уголовной ответственности в отношении преступлений, совершенных иностранцами и лицами без гражданства вне пределов Украины
- Статья 9. Правовые последствия осуждения лица за пределами Украины