Исследование морфологии рельефа образца «хром на стекле»
На CTM были получены 3Dизображения нанопокрытий хрома на диэлектрической подложке (стекло) (см. рис. 59, 60). Нами было установлено, что на наноуровне структурные образования нанопокрытия хрома на диэлектрической подложке (стекло) могут быть расположены равномерно и иметь размеры, значительно меньшие нанотехнологической границы 100 нм во всех направлениях, т.е.
относятся к наноструктурным образованиям (характерный размер порядка 40-60 нм).При этом также отметим существующую неоднородность толщины пленки: на поверхности имеются структуры, отличающиеся по размерам. По нашей оценке, глубина впадин лежит в пределах 30 нм, а высота пиков не превышает 15 нм. При этом анализ рис. 61 показывает, что образец в целом имеет достаточно ровные участки - «плато», когда разница высот между пиками и впадинами составляет менее 15 нм (см. рис. 61). Данные, представленные на рис. 61, коррелируют с данными работы [230] для пленок хрома на сапфире. Несмотря на то что исследование именно таких структурных элементов нанопокрытия представляет интерес с точки зрения обнаружения фрактальной структуры, в нашей работе получить хорошо разрешенные снимки образца «хром на стекле» с выявлением отдельных кластеров и агломератов не получилось, чтобы провести исследование фрактальных свойств покрытия. По-видимому, это связано с тем, что покрытие в целом получается более однородным, чем для пленок золота и серебра. Для оценки поверхности нами построена гистограмма появления пиков, из которой следует, что наибольшая часть пиков приходится на -0,2÷+0,2 нм (см. рис. 62). Можно сделать вывод о том, что в целом поверхность достаточно однородна - типа «плато», как и для образца «золото на слюде».
Кроме того, необходимо отметить, что при использовании магнетронного напыления пленок хрома (на базе НИТУ «МИСиС») на получаемых пленках хрома на стекле фрактальные структуры также не обнаружены.
В этом случае исследуемые образцы тонких пленок хрома синтезировались в вакуумной технологической камере SUNPLA 40ТМ (Корея) на подложки из стекла.
Рис. 59. 3Dизображения нанопленок хрома на диэлектрической подложке
(стекло), полученных с помощью сканирующего туннельного микроскопа (масштаб - 1,6?1,6 мкм2).
Рис. 60. 3Dизображения нанопленок хрома на диэлектрической подложке
(стекло), полученных с помощью сканирующего туннельного микроскопа (масштаб - 3,0 ? 3,0 мкм2).
Синтез проходил в среде аргона при давлении 0,5 Па и мощности магнетрона 150 Вт, подложки предварительно очищались ионной пушкой в течение 5 минут. Ионная пушка применялась для удаления только органических примесей на поверхности подложки. В процессе осаждения пленок подложки были смещены относительно центра зоны распыления и вращались со скоростью 2 об/мин. Толщина пленок, измеренная на сканирующем зондовом микроскопе MFP-3D (Asylum Research, США), составила 260 + 2 нм.
Рис. 61. Профиль поверхности образца «хром на стекле» по направлениям главной (черная кривая) и побочной (красная) диагоналей образцов, показанных на рис. 60. Среднеквадратичная величина толщины образца - 60 нм, среднее арифметическое значение профиля рельефа - 10 нм.
Рис. 62. Гистограмма появления пиков на поверхности «хром на стекле».
Отметим, что для дополнительной планаризации рельефа поверхностей небольшой площади, в том числе нанометрового масштаба, в настоящее время применяется эффект преимущественного распыления выступов рельефа поверхности по сравнению с распылением впадин/«плато» на поверхности при облучении образца наклонно падающими пучками ионов.
Например, в работе [231] методом CTM исследовалась поверхность пленок хрома, осажденных на полированную поверхность стекла до и после облучения пучком ионов аргона, при этом шероховатость поверхности после облучения уменьшается в 5-8 раз в зависимости от режима ионного облучения.В заключение отметим, что большинство использующихся пленок благородных металлов получается в настоящее время методами термического или электронно-лучевого испарения, магнетронного распыления, катодного распыления [232-234]. В [234] указано, что морфология поверхности пленки золота сильно зависит от метода ее получения. Пленки, полученные методом термического испарения, характеризуются поверхностными неоднородностями высотой до 35 нм и диаметром 30-50 нм. Пленки, полученные методом магнетронного напыления, имеют неоднородности с поперечными размерами 50-70 нм. Пленки, полученные методом катодного напыления, характеризуются
неоднородностями различных поперечных размеров с плоской поверхностью. Такая разница в рельефе поверхности связана с различной энергией осаждающихся частиц и, как следствие, различной подвижностью атомов [234]. Если подвижность атомов высокая, то появившиеся первоначально островки пленки объединяются и образуют гладкую сплошную поверхность. Таким образом, возможность получения периодических структур (структур C повторяющимися элементами рельефа) зависит как от метода напыления, так и от свойств самого пучка. Например, для ультратонких пленок золота характерной особенностью является повторение рельефа подложки [235].
В Таблице 5 для нанопокрытия «хром на стекле» представлены результаты расчетов морфологических характеристик поверхности (высотные параметры) с использованием программного продукта Scanning Probe Image Processor [108].
Таблица 5. Морфологические характеристики образца «хром на стекле», нм

3.5.
Еще по теме Исследование морфологии рельефа образца «хром на стекле»:
- Исследование морфологии рельефа и фрактальных свойств образца «серебро на слюде»
- 3.1. Исследование морфологии рельефа и фрактальных свойств образца «золото на слюде»
- Глава 3. Исследование морфологии рельефа, фрактальных свойств поверхности и электрических характеристик контакта зонд-образец для наноразмерных металлических пленок на диэлектрических подложках методом сканирующей туннельной микроскопии
- 4.3. Исследование поликристаллических образцов
- 1. Основные понятия морфологии как раздела грамматики. Морфология в системе грамматических дисциплин.
- Предмет и задачи морфологии. Связь морфологии с фонетикой, лексикой, словообразованием, синтаксисом.
- Измерение вольт-амперных характеристик туннельного контакта вольфрам - хром
- 33.Морфология. Лексич-ое и грам-ое значения в слове. Осн-ые понятия и ед-цы морфологии.
- 33.Морфология. Лексич-ое и грам-ое значения в слове. Осн-ые понятия и ед-цы морфологии.
- Производство стекла
- § 36. Предмет морфологии. Слово как объект морфологии
- Результаты анализа исследований зависимости предела прочности на сжатие образцов, от основных параметров установки
- Глава 4. Проведение экспериментальных исследований образцов нелегированных и легированных неупорядоченных полупроводников состава GST-225.
- Янтарь против стекла?
- 6.2 Изменения структуры сплава медь - хром после облучения импульсом СО2- лазера 6.2.1 Эксперимент
- Программа идентификации R-C-NR ЯЭФП и исследование алгоритмов идентификации на основе опытных образцов ЯЭФП
- РЕЛЬЕФ СОВРЕМЕННОЙ ПОВЕРХНОСТИ
- 5.2. Проекция рельефа на плоскость
- 5.1. Виды и формы рельефа
- 1.6.1. Изображение рельефа местности на картах горизонталями