<<
>>

Атомно-слоевое осаждение

Ещё одним метод, который используется для получения ЦТС пленок - метод атомно-слоевого осаждения (ACO). ACO является уникальным методом выращивания тонких пленок и существенно отличается от других способов осаждения.

Отличительная черта осаждения атомных слоев - самоограничивающая природа роста, благодаря которой каждый раз возможно нарастание только одного атомного или молекулярного слоя. Следовательно, осаждение атомных слоев обеспечивает оптимальный способ управления толщиной пленки и гладкостью поверхности на действительно нанометровом или субнанометровом уровне. В типичном процессе осаждения атомных слоев поверхность вначале активируют с помощью химической реакции. Когда молекулы прекурсора вводят в камеру, где происходит осаждение, они реагируют с активными центрами поверхности, образуя химические связи с подложкой. Так как молекулы прекурсора не взаимодействуют друг с другом, на этой стадии может быть осажден только один молекулярный слой. Затем монослой молекул прекурсора, которые химически связаны с подложкой, снова активируют с помощью поверхностной реакции. Либо одинаковые, либо различные молекулы прекурсора последовательно вводятся в камеру, где происходит осаждение, и там

они реагируют с активированным ранее осажденным слоем. Таким образом последовательно осаждаются следующие молекулярные или атомные слои, причем на каждом этапе происходит формирование одного слоя [37,38].

По сравнению с другими методами осаждения из газововой фазы осаждение атомных слоев обладает следующими преимуществами: прецизионное регулирование толщины пленки и равномерность покрытия.

1.2.5

<< | >>
Источник: Канарейкин Алексей Геннадьевич. Сегнетоэлектрические свойства наноструктурированных систем на основе цирконата-титаната свинца. Диссертация на соискание ученой степени кандидата физико-математических наук. Санкт-Петербург - 2018. 2018

Еще по теме Атомно-слоевое осаждение:

  1. Осаждение распылением.
  2. Химическое осаждение из газовой фазы (ХОГФ)
  3. Импульсное лазерное осаждение
  4. Классификация типов адсорбционных слоев и теоретических подходов к их исследованию
  5. Атомный ледокольный флот
  6. Гиперкорректные модели нижних слоев среднего класса
  7. Атомно-силовая микроскопия
  8. 94. Атомная энергетика мира
  9. Программа атомной бомбы
  10. 1.4. Влияние спонтанной поляризации на свойства интерфейсных слоев в пленочных сегнетоэлектриках
  11. Золото, полученное в атомном реакторе
  12. Создание атомного оружия в СССР
  13. 18.11. Нарушение правил безопасности на объектах атомной энергетики (ст. 215)
  14. Глава 1. Теоретические подходы к исследованию структурных и термодинамических характеристик адсорбционных слоев
  15. Нарушение правил безопасности на объектах атомной энергетики (ст. 215 УК РФ)
  16. 6. Атомное оружие
  17. Зависимость диэлектрических характеристик образцов керамики BTS от числа слоев с разной концентрацией олова.
  18. Страхование атомных рисков