Исследования микроструктуры на просвечивающем электронном микроскопе
Исследования микроструктуры кристаллов германия на просвечивающем электронном микроскопе были выполнены на образцах с кристаллографической ориентацией [111].
Образцы германия подготавливались к исследованию двумя способами.
Первый способ (образец №1) - механическое утонение шлифовкой на установке тонкого механического утонения Dimpling grinder (модель 200) производства Fischione Instruments. Механическое утонение с последующим химическим травлением в данном способе заканчивалось при возникновении отверстия диаметром 0,5-0,8 мм в центральной части образца. Второй способ (образец №2) - предварительное утонение шлифовкой на установке тонкого механического утонения Dimpling grinder до достижения толщины 10 - 12 мкм, и последующее окончательное утонение на установке ионного утонения ТЕМ Mill фирмы Fischione Instruments. Утонение образцов осуществлялась бомбардировкой поверхности образца ионами аргона. Образец утонялся локально до образования конусного отверстия со стороны плоской поверхности образца. Углы наклона обоих пучков к поверхности образца в процессе утонения составляли 10°.Метод просвечивающей электронной микроскопии позволил выявить фрагменты атомных плоскостей, имеющих атомарное разрешение, представленных на рисунке 3.30. Наличие невысокой концентрации дефектов в монокристаллах (дислокаций) - на уровне IO3см"2 - не позволил выявить и продемонстрировать нарушения кристаллической структуры. Не были выявлены и ряд других дефектов - типа дефектов упаковки, примесных включений, что также объясняется совершенством кристаллов и малой площадью исследуемых фрагментов.
На поверхности образца №2 наблюдались структурные артефакты неправильной формы, показанные на рисунке 3.31. Большая концентрация этих дефектов исключает возможность отождествления их с легирующей примесью.
У образца №1 подобных образований обнаружено не было, как показано на рисунке 3.32.
Поскольку основное отличие между образцами состоит в способе утонения - для первого использовалось только механический способ, для второго также обработка ионами аргона, то естественно предположить, что наблюдаемые артефакты являются искусственными дефектами, инициируемыми воздействием на поверхность германия пучков ионов аргона.
Исследования на просвечивающем электронном микроскопе в центре коллективного пользования «Диагностики микро- и наноструктур» (г. Ярославль).
Рисунок 3.30 -Атомные плоскости на поверхности германия, наблюдаемые методом просвечивающей электронной микроскопии. Масштабная метка 5 мкм
Рисунок 3.31 - Поверхность германия, наблюдаемая методом просвечивающей электронной микроскопии образец №2. Масштабная метка а - 50, б -10 мкм
Рисунок 3.32- Поверхность германия, наблюдаемая методом просвечивающей
электронной микроскопии, образец №1. Масштабная метка 10 мкм
Таким образом, в данной главе рассмотрены особенности формирования бороздчатой структуры свободной поверхности кристаллов германия, выращенных способами Чохральского и направленной кристаллизации, установлена корреляция между неровностями рельефа поверхностей и плотностью дислокаций, методами РЭМ и оптической профилометрии исследована дислокационная структура основных кристаллографических направлений монокристаллов германия.
Еще по теме Исследования микроструктуры на просвечивающем электронном микроскопе:
- Просвечивающая электронная микроскопия
- Просвечивающая электронная микроскопия (ТЁМ) и технология фокусированного ионного пучка
- Исследования поверхности с помощью растрового электронного микроскопа
- Электронная микроскопия
- 2.2.4 Растровая электронная микроскопия
- 4.2 Исследование самополяризованного состояния и локальной поляризации тонких пленок ЦТС методом силовой микроскопии пьезоэлектрического отклика.
- Криминалистическое исследование электронных документов
- 3.3 Сопоставление результатов по исследованию фрактальных свойств наноразмерных пленок золота, серебра: атомно-силовая и туннельная микроскопия
- Глава 3. Исследование морфологии рельефа, фрактальных свойств поверхности и электрических характеристик контакта зонд-образец для наноразмерных металлических пленок на диэлектрических подложках методом сканирующей туннельной микроскопии
- Глава 2. Технологические основы современных сканирующих зондовых микроскопов. Обзор основных методик туннельной микроскопии. Нанотехнологический комплекс «YMKA-02G»
- § 3. Криминалистическое исследование электронных реквизитов пластиковых карт и других документов