Селективное травление
Метод химического травления кристаллов был введён в исследовательскую практику ещё в XVIII веке в целях выявления кристаллографической симметрии природных кристаллов. Суждения о симметрии вырабатывались на основе изучения формы ямок травления на разных кристаллографических гранях.
Обнаружение связи между ямками травления и выходами дислокаций на поверхность привело к развитию метода селективного травления, который стал использоваться как стандартный при оценке качества полупроводниковых кристаллов и подложек для элементовмикроэлектроники. По мере накопления экспериментальных данных стало очевидным, что помимо определения плотности дислокаций, форма и микроморфология ямок травления могут быть использованы для изучения также и других физических свойств материалов [56,58 ] при условии выполнения ряда предпосылок.
Образование ямки травления протекает путём возникновения образования зародыша в месте выхода дислокации на поверхность с его последующим ростом путём горизонтальной трансляции атомных ступенек.
В практическом плане для получения хорошо сформированных ямок травления необходимо выполнение условия Vπ> Vs, где Vn- скорость образования зародыша, a Vs- скорость продвижения ступеньки, при этом желательно удерживать на минимально возможном уровне (в идеале нулевом) скорость травления бездефектной поверхности Vpсогласно рисунку 2.13. Эти критерии могут быть выполнены путём оптимизации температуры и состава травителя, однако морфология ямки, частности, наклон её боковых стенок стенок по отношению к поверхности зависит также от таких факторов, как декорирование дислокации (при наличии облаков Коттрелла) и типа дислокации.
Рисунок 2.13 - Схематическое изображение дислокационной ямки
травления [4]
В целом к числу факторов, влияющих на морфологию и относительные размеры дислокационной ямки относятся [4]:
симметрия, отражающая связь между кристаллографией и формой ямки травления относится к кристаллографическая ориентация (симметрия) протравливаемой поверхности;
полярность поверхности;
состав травителя;
изменения химического состава вблизи дислокации (атмосфера Коттрелла) и в матрице;
ориентация дислокации по отношению к поверхности;
упругая энергия дислокации, характеризуемая её вектором Бюргерса.
Указанные факторы в конечном счёте определяют форму растворения кристалла, профиль растворяющейся поверхности, образование ямок и бугорков, а также значения скоростей травления в местах расположения дефектов. Анализ предсказаний и ограничений, разработанных к настоящему времени моделей теорий [58] показывает, что ни одна из них не охватывает в целом всех этапов, имеющих место в процессе растворения, и соответствующую теорию ещё предстоит разработать, основываясь на накоплении новых экспериментальных данных.
2.2.6.1
Еще по теме Селективное травление:
- Избирательное травление
- 4.1 Морфология ямок травления граней (ПО) и (001)
- “Гострі розлади травлення та недостатність харчування у дітей”
- Морфология ямок травления граней (111), (ИО), (100)
- 5.6 Технико-экономическая эффективность использования центробежной противоточной мельницы с селективным самоизмельчением материалов
- “Догляд за дітьми з патологією органів травлення та гельмінтозами”
- Будова та функції органів травлення
- Селективно-адаптивная модернизация в условиях трансформации социальности Selective and adaptive modernization in the conditions a transformation of sociality
- Исследования по повышению износостойкости роторов центробежной противоточной мельницы с селективным измельчениемматериалов
- Выводы
- Парателлурит
- 2.2.1 Оптическая микроскопия
- 4.3. Дефекты структуры кристаллов парателлурита и связь их образования с ростовой кинетикой
- Рентгеновская дифракционная топография
- Германий