<<
>>

Селективное травление

Метод химического травления кристаллов был введён в исследовательскую практику ещё в XVIII веке в целях выявления кристаллографической симметрии природных кристаллов. Суждения о симметрии вырабатывались на основе изучения формы ямок травления на разных кристаллографических гранях.

Обнаружение связи между ямками травления и выходами дислокаций на поверхность привело к развитию метода селективного травления, который стал использоваться как стандартный при оценке качества полупроводниковых кристаллов и подложек для элементов

микроэлектроники. По мере накопления экспериментальных данных стало очевидным, что помимо определения плотности дислокаций, форма и микроморфология ямок травления могут быть использованы для изучения также и других физических свойств материалов [56,58 ] при условии выполнения ряда предпосылок.

Образование ямки травления протекает путём возникновения образования зародыша в месте выхода дислокации на поверхность с его последующим ростом путём горизонтальной трансляции атомных ступенек.

В практическом плане для получения хорошо сформированных ямок травления необходимо выполнение условия Vπ> Vs, где Vn- скорость образования зародыша, a Vs- скорость продвижения ступеньки, при этом желательно удерживать на минимально возможном уровне (в идеале нулевом) скорость травления бездефектной поверхности Vpсогласно рисунку 2.13. Эти критерии могут быть выполнены путём оптимизации температуры и состава травителя, однако морфология ямки, частности, наклон её боковых стенок стенок по отношению к поверхности зависит также от таких факторов, как декорирование дислокации (при наличии облаков Коттрелла) и типа дислокации.

Рисунок 2.13 - Схематическое изображение дислокационной ямки

травления [4]

В целом к числу факторов, влияющих на морфологию и относительные размеры дислокационной ямки относятся [4]:

симметрия, отражающая связь между кристаллографией и формой ямки травления относится к кристаллографическая ориентация (симметрия) протравливаемой поверхности;

полярность поверхности;

состав травителя;

изменения химического состава вблизи дислокации (атмосфера Коттрелла) и в матрице;

ориентация дислокации по отношению к поверхности;

упругая энергия дислокации, характеризуемая её вектором Бюргерса.

Указанные факторы в конечном счёте определяют форму растворения кристалла, профиль растворяющейся поверхности, образование ямок и бугорков, а также значения скоростей травления в местах расположения дефектов. Анализ предсказаний и ограничений, разработанных к настоящему времени моделей теорий [58] показывает, что ни одна из них не охватывает в целом всех этапов, имеющих место в процессе растворения, и соответствующую теорию ещё предстоит разработать, основываясь на накоплении новых экспериментальных данных.

2.2.6.1

<< | >>
Источник: Иванова Александра Ивановна. Микроморфология поверхности и дислокационная структура крупногабаритных оптических кристаллов германия и парателлурита. Диссертация на соискание ученой степени кандидата физико-математических наук. Тверь - 2015. 2015

Еще по теме Селективное травление:

  1. Избирательное травление
  2. 4.1 Морфология ямок травления граней (ПО) и (001)
  3. “Гострі розлади травлення та недостатність харчування у дітей”
  4. Морфология ямок травления граней (111), (ИО), (100)
  5. 5.6 Технико-экономическая эффективность использования центробежной противоточной мельницы с селективным самоизмельчением материалов
  6. “Догляд за дітьми з патологією органів травлення та гельмінтозами”
  7. Будова та функції органів травлення
  8. Селективно-адаптивная модернизация в условиях трансформации социальности Selective and adaptive modernization in the conditions a transformation of sociality
  9. Исследования по повышению износостойкости роторов центробежной противоточной мельницы с селективным измельчениемматериалов
  10. Выводы
  11. Парателлурит
  12. 2.2.1 Оптическая микроскопия
  13. 4.3. Дефекты структуры кристаллов парателлурита и связь их образования с ростовой кинетикой
  14. Рентгеновская дифракционная топография
  15. Германий