<<
>>

4.2.1. Высокотемпературный отжиг

Образцы SBN, свойства которых описаны в п.4.1, были выращены, как отмечалось в главе 1, в Лаборатории технологии оксидных кристаллов Института Технологии Электронных материалов, г.

Варшава.

Для сравнения на рисунке 4.7 (кривая 1) представлен профиль поляризации поляризованного образца монокристалла SBN61 не подвергавшегося предварительно каким-либо воздействиям, выращенного в университете г. Оснабрюк, Германия. Приведенная координатная зависимость пирокоэффициента кристалла SBN61 свидетельствует о том, что в нем существует неоднородное распределение пирокоэффициента как в поверхностном слое, так и в центральной части образца. Слой с большим значением поляризации наблюдается с обеих сторон образца на глубине 50 - 200 мкм. Подобный характер профиля поляризации в беспримесных образцах SBN, выращенных в университете г. Оснабрюк, воспроизводился и после поляризации образцов подвергнутых термоциклированию. После охлаждения из параэлектрической фазы у них также возникала система встречных доменов с преобладающим направлением поляризации из глубины к поверхности (Рис.

4.7, кривая 2).

Меньшее значение пирокоэффициента в глубине и в приповерхностном слое связано с частичной полидоменизацией образца, об этом свидетельствуют эксперименты по исследованию доменной структуры поляризованного беспримесного кристалла SBN методом травления в работе [81]. На рисунке

4.8, a преддтталена картииа траввееня поляяного среза кристалла SSBNl, на рисунке 4.8,6 неполярного среза этого же образца (полярная ось проходит вертикально). Темные области на фотографии соответствуют полидоменной структуре, светлые - монодоменной. Глубина, на которой расположены полидоменные области, соответствует слоям образца с меньшим значением поляризации (Рис. 4.7). Таким образом, исследоввоия доменной структуры позволяют сделать вывод о том, что причиной неоднородного распределения

пирокоэффициента у поляризованного образца (Рис.

4.7, кривая 1) является его неполная поляризация во внешнем поле. Глубина кристалла остается частично деполяризованной.

Рис. 4.7. Координатные зависимости пирокоэффициента поляризованного кристалла SBN. Кривая 1 поляризованный образец, 2 - после охлаждения из параэлектрической фазы. Направление поляризации в образце показано стрелкой.

При этом толщина монодоменного слоя и глубина, на которой он расположен, различны для сторон, соответствующих + Psи - /\ Данный результат согласуется с утверждением авторов [148] о том, что в полях до 5 кВ/см полностью монодоменизируется только поверхностная область образцов SBN61.

Из сравнения кривых 1 представленных на рисунке 4.1 (поляризованный SBN61, выращенный в Институте Технологии Электронных материалов, г. Варшава) и 4.7 (поляризованный SBN61, выращенный в университете г.

Оснабрюк) четко прослеживается зависимость поляризованного состояния кристалла SBN61 от условий выращивания. Такая зависимость обусловлена случайным распределением ионов Sr и Ва в позиции А2 кристаллической решетки кристаллов SBN [17]. Как показано авторами [34], случайное распределение ионов в кристаллической решетки релаксорных сегнетоэлектриков приводит к возникновению взаимодействий, распределенных по решетке таюке случайным образом. Последнее является причиной наличия в образце случайных полей («random fields» [34-36]), которые, по всей видимости, препятствуют однородной поляризации.

Рис. 4.8. Картины травления поверхности поляризованного беспримесного кристалла SBN полярного среза, масштаб 10 мкм, (а) и неполярного среза, масштаб 50 мкм, (б) [147].

Поскольку для того, чтобы стереть память о любой предшествующей поляризации, кристаллы SBN отжигают при повышенной температуре и затем охлаждают без наложения электрического поля до комнатной температуры [37], было решено попробовать улучшить поляризованное состояние кристаллов SBN61 (выращенных в университете г.

Оснабрюк) путем отжига при температуре, превышающей температуру фазового перехода. Отжиг

кристаллов SBN61 производился в воздушной атмосфере при температуре 200 °С в течение 5 часов.

Координатные зависимости пирокоэффициента отожженного кристалла SBN61 снимались до и после нагрева образца до температуры параэлектрической фазы. Образец перед нагревом поляризовался тем же способом, что и неотожженный образец SBN61 - путем нагрева до температуры 115°С и последующего охлаждения в поле к= 300B∕mm. Соответствующие пироэлектрические профили представлены на рисунке 4.9.

Рис. 4.9. Координатные зависимости пирокоэффициента отожженного беспримесного кристалла SBN. Кривая 1 поляризованный образец, 2 - после охлаждения из параэлектрической фазы. Направление поляризации в образце показано стрелкой

Как видно из представленных профилей поляризации (кривые 1 на Рис. 4.7 и 4.9) поляризованных образцов, предварительный отжиг кристалла SBN61 способствует более однородной поляризации по толщине образца во внешнем электрическом поле. Более однородное распределение поляризации

по толщине кристаллов SBN61, наблюдаемое у отожженных образцов по сравнению с неотожженными, можно объяснить тем, что отжиг приводит к перераспределению ионов Sr и Ва в структуре этих кристаллов [31]. Причем в процессе перераспределения ионов происходит минимизация случайных полей, ранее препятствующих однородной поляризации образца.

Отжиг также способствует возникновению в образце униполярного состояния, что проявляется в восстановлении поляризованного состояния после охлаждения из параэлектрической фазы (кривые 2 на Рис. 4.7 и 4.9).

<< | >>
Источник: Лисицын Владимир Сергеевич. ПИРОЭЛЕКТРИЧЕСКИЕ СВОЙСТВА И СОСТОЯНИЕ ПОЛЯРИЗАЦИИ МОНОКРИСТАЛЛОВ ТВЕРДЫХ РАСТВОРОВ НИОБАТА БАРИЯ СТРОНЦИЯ И НИОБАТА БАРИЯ КАЛЬЦИЯ. Диссертация на соискание ученой степени кандидата физико-математических наук. Тверь - 2015. 2015

Еще по теме 4.2.1. Высокотемпературный отжиг:

  1. Высокотемпературный отжиг
  2. Теплообменники с высокотемпературными теплоносителями
  3. Кинетика отжига полостей в ЩГК, возникающих после воздействия лазерным импульсом
  4. 1.2.11 Нейронные сети, обучаемые по методу имитации отжига.
  5. 1.3. Классификация пьезокерамических материалов. Высокотемпературная пьезокерамика
  6. Влияние температуры отжига на фазовое состояние, микроструктуру и состав тонких пленок ЦТС
  7. Параметры циклов амплификации
  8. Использование метода ДОЭ для анализа сегнетоэлектрических пленок
  9. Объекты исследований
  10. Заключение
  11. 6.2.2 Теоретический анализ результатов эксперимента
  12. Глава 3. Результаты исследований фазового состояния, структуры и состава тонких пленок ЦТС
  13. Методы создания пленок