Методики определения высоты барьера Шоттки
Как известно [89], существуют три основных метода определения высоты потенциального барьера на границе раздела металл-полупроводник, которые в определенной степени можно распространить на случай металл- сегнетоэлектрик: C-Vметод, метод вольт-амперных характеристик, фотоэлектрический метод (в данной работе не использовался).
C-Vметод[89]:
При соблюдении определенных предосторожностей, которые требуются при измерениях, а также при условии, что диод близок к идеальному, а полупроводник имеет однородную концентрацию доноров, дифференциальная емкость C = dQ/dVпри обратном смещении Кбрдля невырожденных полупроводников представляется выражением:
где S- площадь контакта. Nd- концентрация донорных уровней, επ- диэлектрическая проницаемость полупроводника, φb- величина
61 потенциального барьера,
- расстояние от уровня Ферми
до дна валентной зоны, Nc- эффективная плотность состояний. Следовательно, для С-2получаем выражение:
Если φbне зависит от Уобр(т.е. если отсутствует заметный промежуточный слой), то зависимость С(Уобр) имеет вид прямой, которая пересекает горизонтальную ось в точке - Vb, равной - (φb- ξ - kT∕q).В этом случае:
где Vb- напряжение отсечки. Величина
не превышает 0,1 эВ,
поэтому при вычислении φbможно ограничиться только величиной напряжения отсечки Vb.
Различные ошибки при определении высоты барьера C-Vметодом подробно рассмотрены в работе [90].
При использовании этого метода в работе [91] была определена высота барьера Шоттки для интефейса Cr∕4H-SiC, которая составила 1,06 эВ, а в работе [92] величина барьера для структуры Zn∕p-CuInSe2составила 0,35 эВ.Метод вольт-амперных характристик[89]:
ВАХ диодов Шоттки, изготовленных на полупроводнике с высокой подвижностью, описываются диодной теорией при условии, что прямое смещение не слишком велико. В соответствии с этой теорией:
где J- плотность тока, V- смещающее напряжение, J0 - определяется выражением:
Для удобства назовем φb- ∆φbiэффективной высотой барьера φe.
ВАХ реальных диодов никогда точно не совпадает с идеальным уравнением (2.11), а описывается модифицированным уравнением:
62
где коэффициент n(который может зависеть от температуры) почти не зависит от Vи обычно больше единицы. Существует много возможных причин отличия nот единицы, причем наиболее общей причиной является зависимость φbи ∆φbiот напряжения смещения. Для V>3kT∕qуравнение (2.13) можно записать в упрощенном виде:
Поэтому зависимость InJот Vв прямом направлении должна представлять собой прямую линию, за исключением области, где V
Еще по теме Методики определения высоты барьера Шоттки:
- Планарные детекторы рентгеновского и гамма-излучения на основе CdTe, CdZnTe с барьером Шоттки или р-п-переходом
- 8.5. Определение высот
- Определение высоты подъема крюка башенного крана
- Тестирование. Типы тестов. Тест Томаса, тест на определение стиля управления, методика «Психологическое время личности» А. Кроника, методика исследования самооценки С.А Будасси, методика Т. Лири, методика «Личностная агрессивность и конфликтность» Е.П. Ильина и П.А. Ковалева, тест ценностных ориентаций М. Рокича.
- 1.9. Определение абсолютных высот, превышений, крутизны ската и взаимной видимости между точками
- Приложение Л Срединные ошибки определения координат, высот и углов ориентирных направлений
- 4.2. Определение величин потенциальных барьеров в структуре Pt∕PZT(54∕46)∕Pt
- Эффект Шоттки
- Методика по определению мотивов учения (М. Р. Гинзбург, 1988)
- Модель потенциальной ямы Шоттки
- 4.3 Методика определении компонент ковариационных матриц навигационных решений
- 3.5. Разработка методики определения параметров микроклимата в неустановившихся режимах.
- Методика определения качества жизни
- Методика определения локуса контроля
- 4.1 Методика экспериментального определения воздухообмена в салоне
- 3.4 Методика определения тягового сопротивления прикатывающего устройства
- Методика определения поверхностного натяжения для агрегированных частиц
- Методика определения готовности к школьному обучению (М. Н. Костикова, 1985,1987)