<<
>>

Методики определения высоты барьера Шоттки

Как известно [89], существуют три основных метода определения высоты потенциального барьера на границе раздела металл-полупроводник, которые в определенной степени можно распространить на случай металл- сегнетоэлектрик: C-Vметод, метод вольт-амперных характеристик, фотоэлектрический метод (в данной работе не использовался).

C-Vметод[89]:

При соблюдении определенных предосторожностей, которые требуются при измерениях, а также при условии, что диод близок к идеальному, а полупроводник имеет однородную концентрацию доноров, дифференциальная емкость C = dQ/dVпри обратном смещении Кбрдля невырожденных полупроводников представляется выражением:

где S- площадь контакта. Nd- концентрация донорных уровней, επ- диэлектрическая проницаемость полупроводника, φb- величина

61 потенциального барьера,- расстояние от уровня Ферми

до дна валентной зоны, Nc- эффективная плотность состояний. Следовательно, для С-2получаем выражение:

Если φbне зависит от Уобр(т.е. если отсутствует заметный промежуточный слой), то зависимость С(Уобр) имеет вид прямой, которая пересекает горизонтальную ось в точке - Vb, равной - (φb- ξ - kT∕q).В этом случае:

где Vb- напряжение отсечки. Величинане превышает 0,1 эВ,

поэтому при вычислении φbможно ограничиться только величиной напряжения отсечки Vb.

Различные ошибки при определении высоты барьера C-Vметодом подробно рассмотрены в работе [90].

При использовании этого метода в работе [91] была определена высота барьера Шоттки для интефейса Cr∕4H-SiC, которая составила 1,06 эВ, а в работе [92] величина барьера для структуры Zn∕p-CuInSe2составила 0,35 эВ.

Метод вольт-амперных характристик[89]:

ВАХ диодов Шоттки, изготовленных на полупроводнике с высокой подвижностью, описываются диодной теорией при условии, что прямое смещение не слишком велико. В соответствии с этой теорией:

где J- плотность тока, V- смещающее напряжение, J0 - определяется выражением:

Для удобства назовем φb- ∆φbiэффективной высотой барьера φe.

ВАХ реальных диодов никогда точно не совпадает с идеальным уравнением (2.11), а описывается модифицированным уравнением:

62

где коэффициент n(который может зависеть от температуры) почти не зависит от Vи обычно больше единицы. Существует много возможных причин отличия nот единицы, причем наиболее общей причиной является зависимость φbи ∆φbiот напряжения смещения. Для V>3kT∕qуравнение (2.13) можно записать в упрощенном виде:

Поэтому зависимость InJот Vв прямом направлении должна представлять собой прямую линию, за исключением области, где V

<< | >>
Источник: Каменщиков Михаил Викторович. ЭЛЕКТРОПРОВОДНОСТЬ И БАРЬЕРНЫЕ ЭФФЕКТЫ В ТОНКИХ СЕГНЕТОЭЛЕКТРИЧЕСКИХ ПЛЕНКАХ ЦИРКОНАТА-ТИТАНАТА СВИНЦА. Диссертация на соискание ученой степени кандидата физико-математических наук. Тверь - 2014. 2014

Еще по теме Методики определения высоты барьера Шоттки:

  1. Планарные детекторы рентгеновского и гамма-излучения на основе CdTe, CdZnTe с барьером Шоттки или р-п-переходом
  2. 8.5. Определение высот
  3. Определение высоты подъема крюка башенного крана
  4. Тестирование. Типы тестов. Тест Томаса, тест на определение стиля управления, методика «Психологическое время личности» А. Кроника, методика исследования самооценки С.А Будасси, методика Т. Лири, методика «Личностная агрессивность и конфликтность» Е.П. Ильина и П.А. Ковалева, тест ценностных ориентаций М. Рокича.
  5. 1.9. Определение абсолютных высот, превышений, крутизны ската и взаимной видимости между точками
  6. Приложение Л Срединные ошибки определения координат, высот и углов ориентирных направлений
  7. 4.2. Определение величин потенциальных барьеров в структуре Pt∕PZT(54∕46)∕Pt
  8. Эффект Шоттки
  9. Методика по определению мотивов учения (М. Р. Гинзбург, 1988)
  10. Модель потенциальной ямы Шоттки
  11. 4.3 Методика определении компонент ковариационных матриц навигационных решений
  12. 3.5. Разработка методики определения параметров микроклимата в неустановившихся режимах.
  13. Методика определения качества жизни
  14. Методика определения локуса контроля
  15. 4.1 Методика экспериментального определения воздухообмена в салоне
  16.   3.4 Методика определения тягового сопротивления прикатывающего устройства
  17. Методика определения поверхностного натяжения для агрегированных частиц
  18. Методика определения готовности к школьному обучению (М. Н. Костикова, 1985,1987)