Получение тонкопленочных конденсаторных структур

Для реализации поставленной цели были сформированы тонкопленочные конденсаторные структуры на основе цирконата-титаната свинца. В качестве подложки использовалась монокристаллическая пластина кремния, покрытая 500 нм слоем SiCh, адгезионным подслоем TiCh (20 нм) и платиновой пленкой толщиной ≈ 100 нм, являющейся нижним электродом.

Синтез пленок проходил по двухстадийной технологии: первоначально шел процесс распыления, а затем полученные пленки проходили высокотемпературную обработку. Преимущество данного метода получения заключается в предсказуемости результата и воспроизводимости электрических свойств.

2.1.1